Автоматический дроссельный вакуумный клапан-бабочка APC — регулирующий узел для плавного изменения расхода вакуумного канала.
Описание
Автоматический дроссельный вакуумный клапан-бабочка APC
Автоматический регулирующий клапан-бабочка APC применяется в вакуумных камерах, где давление должно поддерживаться на заданном технологическом уровне за счёт управляемого дросселирования магистрали между камерой и насосом. Регулирующим элементом служит поворотный диск, изменяющий проводимость канала по углу открытия. Такой принцип позволяет управлять эффективной быстротой откачки и удерживать давление в широком диапазоне от атмосферного до области 10−6 Па при стабильной динамике без характерных для позиционных клапанов скачков.
Клапан оснащён встроенным контроллером с автоподстройкой параметров ПИД-регулирования под конкретный объём камеры, реальный приток газа и характеристики насоса. Заданное процессное давление передаётся по аналоговому входу 0–10 V либо по интерфейсу RS485, фактическое давление поступает от мембранного или плёночного вакуумметра тем же диапазоном сигнала. По разности сигналов контроллер вычисляет требуемое положение диска и устанавливает его с точностью порядка ±0,1 % FS, обеспечивая плавное регулирование на малых открытиях.
Конструкция выполнена как единый модуль: корпус с присоединением KF или ISO-F, диск, электропневматический привод, датчик положения и клеммные разъёмы размещены в одном узле. Питание DC 24 V соответствует стандартной промышленной автоматике. Корпус и диск из стали 316L, уплотнение FKM либо FFKM обеспечивают низкое газовыделение и суммарную утечку не выше 1,3×10−10 Па·м3/с.
Ключевые параметры
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Тип регулирующего органа | поворотный диск (клапан-бабочка) |
| Рабочий диапазон давления | 1,2×105 – 1,0×10−6 Па |
| Суммарная утечка | ≤ 1,3×10−10 Па·м3/с |
| Управление | 0–10 V и RS485 |
| Питание | DC 24 V ±10 % |
| Материалы | 316L, уплотнение FKM/FFKM |
Клапаны APC целесообразны в процессах PVD/CVD, ионно-лучевой и плазменной обработки, производстве дисплеев и солнечных элементов, а также в любых вакуумных технологиях, где стабильность потока реактивных газов должна быть согласована с откачкой. Возможность работы в режимах регулирования по давлению и фиксированной позиции делает клапан универсальным элементом технологической и сервисной оснастки.
